一种新型投影光刻系统的光学特性研究
与传统的近贴式光刻相比,微透镜阵列投影光刻是一项新兴的光刻技术.针对大面积光刻,特别是对那些面有微变曲或不平整的器件,采用这种非接触式方法可以获得良好的像质和更大的工作距离.本文介绍了一种由四片微透镜阵列叠合而成的1:1成像的多孔径微小光刻系统.从光线光学理论出发,分析了综合成像的特点,讨论了这种光刻成像系统的性能,并给出了实验测量方法.本文还简单介绍了这种用于深紫外光刻的微透镜阵列的微加工工艺.
微透镜阵列 多孔径微小光刻系统 光刻成像系统 微加工工艺
崔崧 阮驰 高应俊
中国科学院西安光学精密机械研究所信息光学室(西安)
国内会议
上海
中文
712-716
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）