X光优化屏蔽问题的快速计算分析

摘要：

应用蒙特卡罗程序(MCNP4B)和基于“窄束衰减法则”的分析方法,本文研究分析了单层和多层材料对黑体辐射X光的屏蔽优化问题,计算了X光穿透屏蔽材料的能通量及相应在硅材料中的总电离剂量(TID),给出了X屏蔽优化设计的一种快速计算分析方法.通过优化屏蔽计算,给出了在总屏蔽质量限定或总电离剂量限定条件下的优化屏蔽结果.

关键词： 蒙特卡罗 X光 屏蔽优化 能通量 总电离剂量

作者: 张殿辉 牛胜利 陈雨生

作者单位: 西北核技术研究所(西安)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届计算物理学术会议

会议地点: 乌鲁木齐

会议语种:中文

页码: 90-94

在线出版日期: 2001-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）