高分辨全息光栅制作技术

摘要：

本文介绍一种用于产生高分辨全息光栅的新方法——液浸式干涉光刻技术的基本原理、实验系统、设计方法和可能的应用.

关键词： 光刻 全息光栅 干涉光刻

作者: 冯伯儒 张锦 四川大学物理系(成都) 侯德胜 宗德蓉 蒋世磊

作者单位: 中国科学院光电技术研究所,微细加工光学技术国家重点实验室(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国光电技术学术交流会

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 442-445

在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）