脉冲激光纳米薄膜制备技术
脉冲激光薄膜沉积(Pulsed laser deposition,PLD)是近年来受到普遍关注的制膜新技术.简要介绍了脉冲激光薄膜沉积技术的物理原理;探讨了脉冲激光沉积制膜的物理过程,激光作用的极端条件及等离子体羽辉的形成的控制对薄膜的成长有很大影响;评价了脉冲激光沉积技术在多种功能材料薄膜特别是纳米薄膜及多层结构薄膜的制备方面的独具特点和优势.同时结合自行研制的设备,介绍了在PLD基础上发展起来的兼具分子束外延(Molecular beam epitaxy,MBE)技术特点的激光分子束外延技术(Laser Molecular beam epitaxy,L-MBE).指出脉冲激光沉积技术在探讨激光与物质相互作用和薄膜成膜机理方面具有重要作用,尤其是激光分子束外延技术在高质量的纳米薄膜和超晶格等人工设计薄膜的制备上显现出巨大的潜力.
脉冲激光沉积 纳米薄膜 激光分子束外延 红外探测器 薄膜制备
李美成 陈学康 杨建平 王菁 赵连城
哈尔滨工业大学材料科学与工程学院(哈尔滨) 兰州物理研究所激光分子束外延技术实验室(兰州)
国内会议
广西北海
中文
319-323
2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）