非致冷红外焦平面阵列的发展动向

摘要：

自非致冷红外焦平面阵列(UFPA)发展以来,其器件制备技术日趋成熟,探测材料不断更新,以Si、Ti、VOx等热敏电阻材料和(Ba、Sr)TiO<,3>等热释电材料制作的阵列,前景尤为看好.本文主要从探测材料的研究角度评述UFPA的发展动向.

关键词： 非致冷红外焦平面阵列 热释电 微测辐射热计 红外探测材料

作者: 刘少波 刘梅冬 普亦可

作者单位: 华中理工大学电子科学与技术系(武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国光电技术学术交流会

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 208-212

在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）