直流磁控溅射制备氧化钒(VOx)薄膜

摘要：

本文对直流磁控反应溅射制备氧化钒薄膜进行了研究.用转靶X射线衍射(XRS),X光电子能谱(XPS)对薄膜的结构,组分进行了测试.实验结果表明;制备条件(衬底温度、反应气体化、靶与衬底的间距、磁控溅射功率等)影响氧化钒薄膜的结构和性能.氧化钒薄膜的结构,组分决定了薄膜的电阻温度系数(TCR).给出了反应溅射制备性能优良的氧化钒热敏材料的典型工艺条件.

关键词： 反应溅射 氧化钒薄膜 电阻温度系数 电阻式测辐射热计

作者: 李华高 杨子文 刘爽

作者单位: 重庆光电技术研究所(重庆) 电子科技大学(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国光电技术学术交流会

会议地点: 广西北海

会议语种:中文

页码: 202-207

在线出版日期: 2000-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）