X射线光刻多介质T型栅制作技术

摘要：

现代应用需求使半导体器件向高频高速方向发展,PHEMT以其高频高速低噪声受到人们重视而发展迅速.在PHEMT的制作工艺中,栅线条的制作是至关重要而又极为困难的.我们采用X射线多层介质工艺制作T型栅,其形貌清晰,线条基本可控,为MMIC制作提供了可靠的工艺手段.

关键词： X射线 PHEMT T型栅 多介质工艺 光刻 半导体器件

作者: 孙加兴 叶甜春 谢常青 申云琴 李兵 陈朝晖 赵玲利 陈大鹏 胥兴才 刘刚

作者单位: 天津大学电子信息工程学院,99研 中科院微电子中心,650信箱 中国科技大学国家同步辐射实验室(合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 281-283

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）