亚半微米铬掩模版制作技术研究

摘要：

介绍用Leica VB5电子束曝光系统在涂敷有PMMA电子束抗蚀剂的4″铬板上,通过扫描曝光、湿法显影、干法刻蚀等手段制作亚微米、亚半微米铬掩模版的工艺技术.

关键词： 亚半微米 电子束/光学混合制版 电子束抗蚀剂 干法刻蚀 铬结构掩模

作者: 王维军 罗四维 江泽流 刘玉贵

作者单位: 河北半导体研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 262-264

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）