深亚微米同步辐射X射线光刻模拟

摘要：

模拟技术在光刻技术的发展过程中一直起着非常重要的作用.本文介绍我们采用束衍生法及快速傅里叶变换相结合的方法来研究X射线掩模中吸收体的光导波效应,对光刻胶表面的空间光强分布及光刻胶剖面进行的模拟计算.基于面向对象技术,初步研制成功了一个深亚微米X射线光刻模拟软件—XLSS1.0.

关键词： X射线光刻 同步辐射 面向对象 光刻胶 光导波效应

作者: 谢常青 叶甜春 陈大鹏 李兵 赵玲利 胥兴才 韩敬东 胥俊红

作者单位: 中国科学院微电子中心三室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 256-258

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）