极紫外投影光刻原理装置的集成

摘要：

本文论述了光刻技术发展的历程、趋势和极紫外投影光刻技术的特性,并介绍了极紫外投影光刻原理装置的研制工作.该装置由激光等离子体光源、掠入射椭球聚光镜、透射掩模、Schwarzschild微缩投影物镜及相应的真空系统组成.其工作波长为13nm,设计分辨率小于0.1μm.

关键词： 极紫外投影光刻 多层膜反射境 激光等离子体光源 透射掩模 微缩物镜

作者: 金春水 马月英 裴舒 王诚 曹健林

作者单位: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所应用光学国家重点实验室(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 241-248

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）