大高宽比图形深度光刻研究

摘要：

本文介绍了中国科技大学国家同步辐射实验室的同步辐射光源深度光刻光束线和实验站,深度同步辐射光刻实验的初步结果.得到了厚为1mm,线宽为5μm、高为150μm、高宽比达到30以及倾斜等复杂图形.

关键词： 同步辐射深度光刻 LIGA技术 微电子机械加工 高宽比图形

作者: 田扬超 刘刚

作者单位: 中国科学技术大学国家同步辐射实验室(合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 239-240

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）