激光等离子体X射线点光源光刻技术

摘要：

目前看来,点光源X射线光刻技术是X射线光刻技术的重要发展方向.点光源X射线光刻技术表现出同步辐射X射线光刻技术不同的许多特性,如单色光、半阴影模糊、对准技术,等等.本文采用XOP软件对激光等离子体X射线点光源的功率谱进行了理论计算,并采用束衍射法对X射线掩模的光波导效应进行了模拟计算,使我们对点光源X射线光刻特性有了一个初步了解.

关键词： X射线光刻 束衍射法 激光等离子体 X射线点光源 光波导效应

作者: 谢常青 叶甜春 陈大鹏 李兵 赵玲利 胥兴才 胥俊红 韩劲东

作者单位: 中科院微电子中心

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 230-232

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）