连续浮雕步进扫描控制研究

摘要：

在制作微透镜阵列时,光刻过程是采用连续浮雕方式.因此,其光刻设备在满足一般光刻要求的基础上,还应具备曝光时间和步进距离均可连续调节的步进扫描曝光功能.本文介绍了科学院光电所研制的URE-2000D型光刻机控制系统的结构组成及控制软件设计,对连续浮雕步进扫描控制原理及其功能实现予以了重点讨论.

关键词： 曝光 单片机 软件 步进扫描 深度曝光光刻机 连续浮雕

作者: 罗正全 胡松 王肇志 赵立新

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 216-218

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）