质子LIGA工艺的探讨

摘要：

提出采用掩模法的质子LIGA方法,即利用厚胶光刻产生掩模,然后进行质子束深度刻蚀,显影获得微结构.根据TRIM96程序进行模拟计算,结果表明该方法可以获得深度达数毫米、深度比为30以上的微结构.利用通常的LIGA工艺制备了质子束深度刻蚀的掩模.在高能所35MeV质子加速器上进行曝光试验,结果表明采用PMMA光刻胶具有足够的灵敏度.

关键词： 微细加工 质子束 准LIGA 微型机电系统 掩模法 深度刻蚀

作者: 彭良强 徐韬光 韩勇 伊福廷 张菊芳

作者单位: 中国科学院高能物理研究所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 339-341

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）