接近式光刻中嵌入式掩模改善光刻分辨率的模拟与分析

摘要：

本文根据菲涅尔-基尔霍夫衍射公式对EAM技术进行了模拟计算,推导出了采用EAM技术时硅片表面的光强分布,分析了EAM技术的实用条件及改善光刻分辨率的效果和应用前景.

关键词： 嵌入式振幅掩模 接近式光刻 光刻分辨率 基尔霍夫衍射定理

作者: 赵永凯 黄惠杰 路敦武 杜龙龙 杨良民 袁才来 蒋宝财 王润文

作者单位: 中国科学院上海光学精密机械研究所(上海)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 201-203

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）