相移滤波提高超微细图形成像光刻分辨力研究
为进一步提高大数值孔径投影成像系统的光刻分辨力和焦深,同时针对振幅型滤波光能量利用率低的缺点,详细研究了相移滤波高分辨力大焦深的基本理论,给出相移滤波数理模型,进行模拟计算分析,根据不同的掩模图形设计制作不同的最优相移滤波器,并自行设计制作搭建可更的滤波器的投影光刻系统,进行投影光刻对比实验.理论分析和实验结果表明,相移滤波能显著提高大数值孔径投影成像光刻分辨力和焦深,同时提高光能利用率,有利于提高光刻生产效率,是一种比较有效提高光刻分辨力和焦深的波前工程技术.
相移滤波 投影成像光刻系统 光能利用率 分辨力 焦深
陈旭南 康西巧 罗先刚 石建平 姚汉民 李展
中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室(成都)
国内会议
成都
中文
196-200
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）