深紫外深度光刻蚀在LIGA工艺中的应用

摘要：

随着MEMS在各个领域的运用,人们也开始探讨低成本、操作方便的LIGA工艺.本文重点介绍了一种用于深紫外光深度光刻实验装置的设计,并将该实验装置成功的应用于LIGA工艺的深度光刻中,光刻实验结果表明深紫外光深度光刻具有很大的实用意义.

关键词： 微型机电系统 微细加工 LIGA工艺 深度光刻 深紫外光光刻

作者: 余国彬 姚汉民 胡松

作者单位: 中国科学院光电技术研究所(成都)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 182-184

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）