激光直写中离焦写入的研究

摘要：

本文从理论计算和光线追迹法对激光直写光刻工艺中离焦对线条影响进行了分析研究;使用激光直写设备开展了离焦写入工艺实验,得以写入线条宽度与离焦量的关系实验曲线;实验和理论计算及光线追迹的结果吻合很好,利用离焦写入方法的在光刻胶写入了光栅和分划板,测得实验结果达到工艺要求.

关键词： 激光直写光刻 离焦写入 离焦量 四轴激光直写系统 工艺要求

作者: 卢振武 李凤友 谢永军 张殿文 裴苏 赵晶丽

作者单位: 中国科学院长春光机与物理研究所应用光学国家重点实验室(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 172-177

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）