微光刻技术

摘要：

介绍了作为微电子技术工艺基础的微光刻技术,它是人类迄今为止所能达到的精度最高的加工技术,加工尺寸已进入深亚微米、百纳米以至纳米级,广泛地应用于微电子、微光学和微机械等微系统工程的微细加工技术.包括不断冲破人们预测理论分辨能力极限的传统光学光刻技术,后光学光刻技术时代的下一代光刻技术和寻求在纳米结构图形生成有所突破的纳米加工技术.

关键词： 微光刻技术 纳米加工 微电子技术 分辨率

作者: 陈宝钦 刘明 任黎明 胡勇 金勇 陈勇

作者单位: 中国科学院微电子中心(北京) 法国微结构和微电子国家实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 161-163

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）