用PIXE分析技术测量晶片表面的污染

摘要：

本文介绍了PIXE(质子激发X射线发射)分析技术分析硅晶片表面杂质元素的探测灵敏度、最低可探测限以及对一些实际样品分析结果.

关键词： 晶片 污染 硅 质子激发X射线发射技术 样品分析

作者: 朱光华 卢殿通 汪新福 周宏余

作者单位: 北京师范大学低能核物理研究所,射线束技术与材料改性教育部重点实验室,北京市辐射中心(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 75-76,69

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）