电子束直写直栅和T型栅工艺技术应用

摘要：

介绍用EBL(E-Beam Lithography)技术在GaAs圆片上制作≤0.5μm栅条的工艺技术,并在GaAs器件的研制中得到应用.

关键词： 电子束曝光技术 直栅 T型栅 工艺条件 直接光刻

作者: 刘玉贵 王维军 罗四维 江泽流

作者单位: 河北半导体研究所(石家庄)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 58-59

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）