光电器件用硅单晶片腐蚀技术研究

摘要：

本文通过对化学腐蚀的机理进行分析,提出了一种新型湿法腐蚀方法二步腐蚀法.

关键词： 硅 化学腐蚀 光电器件 腐蚀技术 二步腐蚀法

作者: 杨洪星 赵权 刘春香 宋晶 谢俊启

作者单位: 信息产业部电子第四十六研究所(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十二届全国半导体集成电路硅材料学术会议

会议地点: 昆明

会议语种:中文

页码: 168-171

在线出版日期: 2001-04-12（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）