超薄Tl2Ba2CaCu2Ox薄膜的制备和特性

摘要：

我们采用磁控溅射和后退火的方法在LaAlO<,3>(001)衬底上制备了高质量的超薄Tl<,2>Ba<,2>CaCu<,2>O<,x>薄膜.初步研究表明厚度在30nm以上的薄膜T<,c>可达101K以上,20nm厚的薄膜T<,c>仍然可以达到94K.XRD测试结果表明50nm～60nm厚的薄膜都具有很纯的Tl-2212相结构,并具有很好的c轴取向.SEM照片表明薄膜具有均匀致密的表面形貌.

关键词： 超导薄膜 磁控溅射 退火处理 薄膜生长

作者: 路荣涛 何明 阎少林 方兰

作者单位: 南开大学电子科学系(天津)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国超导电子器件学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 62-65

在线出版日期: 2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）