光加热法制备大面积YBCO薄膜实验研究

摘要：

采用直流磁控溅射原理,用环靶结构和光加热方法,对φ50mm大面积超导薄膜的制备工艺进行了探索,采用多基片拼组的方法进行模拟,Tc～86-87K.介绍溅射装置和光加热器的设计思想,并对工艺中出现的有关问题进行了讨论.

关键词： 超导薄膜 光加热法 大面积基片 直流磁控溅射

作者: 胡来平 汤延林 牛书明 宫海燕 张峥 黄振辉

作者单位: 信息产业部电子第十六研究所(合肥)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国超导电子器件学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 14-15

在线出版日期: 2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）