Co/ZnO/FeNi磁性多层膜中的垂直(CPP)磁电阻效应

摘要：

本文研究了Co/ZnO/FeNi磁性多层膜的垂直磁电阻特性.利用多靶磁控溅射系统和光刻技术在Si(100)衬底上制备出微米尺寸的(Co/ZnO/FeNi/ZnO)<,2>多层膜样品.在77K温度下对其磁电阻进行了测量,样品电阻为几个欧姆,磁电阻可达3.3﹪.

关键词： 磁性多层膜 磁控溅射 光刻技术 磁电阻效应 输运性质

作者: 陈延学 郝晓涛 任妙娟 萧淑琴 刘宜华 梅良模

作者单位: 山东大学物理系(济南)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第三届全国磁性薄膜与纳米磁学学术会议

会议地点: 兰州

会议语种:中文

页码: 79-80

在线出版日期: 2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）