单晶NbN薄膜的制备研究
单晶NbN薄膜在超导电子学的研究中有着诱人的应用前景,如制作SIS法,研究Josephson隧道效应等等.本文着重讨论了利用直流磁控溅射工艺制作单晶NbN薄膜的技术,并对其超导电性做了一定的研究.虽然制作过程中衬底没有加热,我们仍然获得了较好的晶体结构,较低的常温电阻率等.样品的X衍射结果表明,我们获得了很好的单晶结构,可以看到高而陡的衍射峰,以及较好的晶格参数.
单晶NbN薄膜 超导薄膜 直流磁控溅射 晶格参数
蔡卫星 康琳 杨森祖 吉争鸣 傅泽禄 吴培亨
南京大学电子科学与工程系超导电子学研究所
国内会议
贵阳
中文
49-52
2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）