低压等离子体的研制及CxH1-x薄膜的制备

摘要：

本文详细叙述了一套超高真空镀膜系统用于低压等离子体化学气相沉积的研制;详细讨论采用低压等离子体化学气相沉积法来制备C<,x>H<,1-x>薄膜的FT-IR及XPS谱,这些谱表明,在样品中,不仅存在C-C单键,同时还存在相当数量的C=C双键;新鲜制备的C<,x>H<,1-x>薄膜表面存在大量的悬挂键,样品经过H<”+>原位处理较长时间之后,表面存在的悬挂键基本被饱和.

关键词： 真空镀膜系统 化学气相沉积 低压等离子体 C<,x>H<,1-x>薄膜 悬挂键

作者: 吴卫东 黄勇 罗江山 许华

作者单位: 中国工程物理研究院激光聚变研究中心(四川绵阳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国激光科学技术青年学术交流会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 441-444

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）