大面积均匀纳米金刚石薄膜制备研究
本文报道了一种利用偏压恒流等离子辅助热丝化学气相沉积方法在硅基板制备大面积均匀纳米金刚石薄膜的新工艺,在不同沉积条件下研究了纳米金刚石薄膜的成核和生长过程,并通过扫描电镜、喇曼光谱和表面粗糙度测试仪观察了纳米金刚石薄膜的结构特征.最后成功地制备了直径100毫米、平均晶粒尺寸10纳米的光滑纳米金刚石薄膜.
热丝化学气相沉积 纳米金刚石薄膜
龚辉 范正修 姜辛 C.P.Klages
上海光学精密机械研究所(上海) Fraunhofer-IST of film and surface engineering,Germany
国内会议
贵阳
中文
132-135
2001-10-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)