电子枪、离子辅助和离子溅射三种工艺对增透膜性能的影响

摘要：

本文在用电子枪、离子辅助和离子溅射三种工艺分别制备出增透膜后,运用一系列测试手段,如干涉仪、表面热透镜技术、X射线衍射等,来分析和研究这些薄膜性能的变化,判断出合理的沉积工艺.

关键词： 增透膜 电子枪 离子辅助 离子溅射 光学薄膜 薄膜沉积

作者: 王英剑 李庆国 易葵 宋永香 范正修

作者单位: 中国科学院上海光机所

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国激光科学技术青年学术交流会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 104-108

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）