大口径均匀软X射线多层膜制备方法研究

摘要：

本文介绍了基于速度调整的技术的均匀软X射线多层膜制备方法,并利用改进后的磁腔溅射镀膜装置,在φ150mm硅片上进行了13nm Mo/Si多均匀层膜.

关键词： 速度调整 软X射线多层膜 磁控溅射 均匀性 薄膜制备

作者: 金春水 马月英 裴舒 林强 曹健林

作者单位: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所(长春)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国激光科学技术青年学术交流会

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 71-72

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）