软X射线多层膜与衰减膜研究
本文采用随机数的方法,发展了一种普适的多层膜设计方法,这种方法除可设计一般的周期多层膜,更重要的是它可以根据选定评价因子,设计不同要求的非周期多层膜.用磁控溅射方法完成软X射线多层膜制备,X射线衍射、卢瑟福背散射、物歇电子谱和反射率的相对测试用来表征多层膜结构和特性,所得结果说明多层膜的结构完整,周期参数正确;分析了Ag和Zr衰减膜中的杂质含量与分布及其对衰减膜特性的影响,并对衰减系数进行了修正;探索了C<,8>H<,8>+Al复合衰减膜的制备方法.为实验提供优质的靶和衰减膜.
软X射线 多层膜 衰减膜 随机数 磁控溅射
王占山 吴永刚 唐伟星 秦树基 周斌 陈玲燕
同济大学物理系
国内会议
贵阳
中文
63-66
2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）