TiAl基合金中的相变诱发位错网

摘要：

为进一步理解TiAl基合金层状组织的稳定性及转变规律,本文对经1050℃(处于α<,2>+γ两相区)退火TiAl层状组织中不连续α<,2>层片前端γ相中的位错网进行分析,并用H-800透射电镜观察分析了组织结构.

关键词： TiAl基合金 层状组织 位错网 透射电镜

作者: 梁伟 张绍远 赵兴国 李晋敏

作者单位: 太原理工大学材料科学与工程学院(太原)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国扫描电子显微学术会议

会议地点: 包头

会议语种:中文

页码: 340-341

在线出版日期: 2001-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）