缩小投影电子束曝光机掩模特性分析

摘要：

简要介绍缩小投影电子束曝光技术原理及掩模类型.重点介绍了测量掩模透射率和对比度的条件、实验数据及结论.对进一步改进掩模结构性能具有指导意义.

关键词： 缩小投影电子束曝光机 掩模 结构参数 高分辨率

作者: 吴桂君 彭开武 张福安

作者单位: 中科院电工所九室(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 25-28

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）