高灵敏度抗蚀剂电子束刻蚀技术研究

摘要：

本文介绍了电子束掩模制造中的设备和高灵敏度的抗蚀剂电子束刻蚀技术研究.

关键词： 抗蚀剂 PBS 掩模 电子束 刻蚀技术

作者: 彭力 陈惠萍 沈俊然 王新华 国芳 王雪英 过建群 岳涛

作者单位: 中国华晶电子集团公司掩模工厂(无锡)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 23-24

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）