一种新型的电子束投影成像曝光技术

摘要：

具有角度限制的电子束缩小投影曝光技术可能是21世纪纳米光刻最有前途的光刻技术之一.我们利用透射电镜(TEM)将它的放大投影镜改为缩小投影镜、改造样品台、增加基片工件台,通过实验可曝出最细线宽78纳米的线条.同时对掩模、对准进行初步研究.

关键词： 纳米 电子束 曝光 微电子技术 光刻 掩模

作者: 顾文琪 张福安

作者单位: 中国科学院电工研究所(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 16-22

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）