蒙特卡罗方法模拟电子束曝光

摘要：

本文建立一个更为严格的描述电子散射过程的物理模型,在此基础上运用蒙物卡罗方法模拟电子在靶体PMMA-Si衬底中的复杂散射过程,并通过大量计算研究不同曝光条件对胶中沉积能密度分布的影响,给出模拟得到的电子散射轨迹图及沉积能密度分布结果.

关键词： 电子束曝光 蒙特卡罗方法 弹性散射 非弹性散射 微细加工

作者: 任黎明 陈宝钦 刘明 张建宏 谭震宇

作者单位: 中国科学院微电子中心微光刻实验室(北京) 山东大学电气工程学院(济南)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国电子束、离子束、光子束学术年会

会议地点: 成都

会议语种:中文

页码: 34-36

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）