Si(001)斜切衬底片上Ge量子点的固相外延生长

摘要：

本文研究了Si(001)6°斜切衬底上Ge量子点的固相外延生长,同时对Si(001)斜切衬底片上固相外延Ge最子点的稳定性进行了研究.

关键词： 固相外延生长 Ge量子点 Si衬底 稳定性

作者: 胡冬枝 赵登涛 蒋伟荣 施斌 顾骁骁 张翔九 蒋最敏

作者单位: 复旦大学应用表面物理实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 第六届全国分子束外延学术会议

会议地点: 贵阳

会议语种:中文

页码: 68-69

在线出版日期: 2001-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）