GaAs(001)衬底上分子束外延生长六方GaN薄膜

本文在国产的MBE系统中,首次采用AlAs成核层在GaAs(001)衬底上发生出了六方GaN.采用LT-AIN代替LT-GaN作为缓冲层改善GaN外延薄膜的质量.
GaN GaAs衬底 分子束外延生长 外延层质量 半导体材料
刘洪飞 陈弘 万里 李东升 黄绮 周均铭
中国科学院物理研究所
国内会议
贵阳
中文
62-63
2001-08-01(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
GaN GaAs衬底 分子束外延生长 外延层质量 半导体材料
刘洪飞 陈弘 万里 李东升 黄绮 周均铭
中国科学院物理研究所
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