C离子注入对几种金属/单晶SiO2体系界面特征的影响

摘要：

本文报道了利用C离子注入改善金属(Ti、Al或Ag)/SiO<,2>单晶的界面结合,并利用纳米划痕仪结合原子力显微镜对C离子注入前后金属/SiO<,2>单晶的界面失效机理进行了研究.

关键词： 离子注入 界面特征 金属/SiO<,2> 失效机理 原子力显微镜

作者: 吕晋军 徐洮 张平余 杨生荣 薛群基

作者单位: 中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室(兰州)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第二届全国扫描电子显微学术会议

会议地点: 包头

会议语种:中文

页码: 296-297

在线出版日期: 2001-08-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）