相移显微云纹干涉技术用于微电子器件的微小变形测量

摘要：

运用显微云纹干涉法可以获得放大100倍以上的云纹干涉条纹，结合相移技术可以分辨出百分之一的条纹位相变化，从而获得更高的位移测量灵敏度。本文进一步发展了这一技术，在微电子器件的微小变形测量方面获得了纳米级测量精度的位移分布图，为微电子结构及材料尤其是局部区域的变形测量研究提供的可靠手段。

关键词： 相移 显微 云纹干涉 微电子封装 微电子器件

作者: 何小元 邹大元 刘胜 郭一凡 戴福隆

作者单位: 东南大学 WayneStateUniversityDetroitMichigan MotorolaSemiconductorProductsSectorTempe 清华大学

会议类型: 国内会议

会议名称: 第九届全国实验力学学术会议

会议地点: 广州

会议语种:中文

页码: 207-212

在线出版日期: 2000-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）