超巨磁电阻材料的PAT研究

关键词： 超巨磁电阻材料 正电子湮没技术 晶格不稳定性

作者: 曹国辉 王强 岳勇 王耘波 魏龙 王耘波

作者单位: 北京科技大学材料物理系 中国科学院核分析技术开放实验室(北京) 华中理工大学电子科学与技术系(武汉)

会议类型: 国内会议

会议名称: 全国第七届正电子湮没学术会议

会议地点: 泉州

会议语种:中文

页码: 55-58

在线出版日期: 1999-04-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）