TiN<,(p)/Si<,3>N<,4>陶瓷显微结构研究

摘要：

该文对ＴｉＮ粒度为３０μｍ的三种不同含量的ＴｉＮ〈，（ｐ）〉／Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷进行了断口形貌及压痕裂纹扩展路径观察（ＳＥＭ）。结果表明：三种陶瓷断口均表现为沿晶断裂，随ＴｉＮ含量的增加，兼有部分穿晶（ＴｉＮ）断裂的特征，并对实验结果和断裂机制作出了解释。

关键词： 显微结构 氮化硅 氮化钛陶瓷

作者: 邹红 邹丛沛 李卫军

作者单位: 核动力研究设计院核燃料及材料国防科技重点实验室

会议类型: 国内会议

会议名称: 1998年中国材料研讨会

会议地点: 北京

会议语种:中文

页码: 907～910

在线出版日期: 1999-01-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）