超高压烧结工艺对Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷结构及韧性的影响

摘要：

对采用超高压设备在５６０～１５５０℃温度范围内烧结的Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷的制造工艺对微观结构与韧性的影响进行了研究，微观组织为层片状，形态与烧结助剂无关。在１４５０～１５５０℃范围内烧结，可获得很高的硬度与较好的韧性。

关键词： 超高压烧结 Ｓｉ〈，３〉Ｎ〈，４〉陶瓷 韧性

作者: 王宝棣 温静娴 齐龙浩 苗赫濯

作者单位: 大学电镜室 大学北京方大高技术陶瓷有限公司

会议类型: 国内会议

会议名称: 第七次全国热处理大会

会议地点: 洛阳

会议语种:中文

页码: 410～414

在线出版日期: 1999-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）