超洁净微环境设计参数之实验与模拟研究
半导体制程IC卡幅日超细微化之下,微粒子的控制成为重要之课题,全面的高洁净界流流场耗能且高成本,利用制程机一特性之隔离技术,即所谓的微环境(Mini-Environment)设计已成为半导体洁净室设计之要点.所谓微环境设计即为于洁净度等级1000甚至10000之环境中,隔离出配合制程环境使用之高洁净度区域(Classl或更高).本研究旨在建立微环境设计参数对于气流分布状况之影响,并借以评估不同状状下污染隔离之效果.本研究采用计算流体计算机模拟的方式,对可能影响微环境气流状况之设计参数进行模拟分析,期望能对微环境之参数设计有所探讨与贡献.本文所探讨之项目包括缓冲区之功效,工作人员对流场之影响,微环境外气流对微环境隔离之影响,本研究发现在具有缓冲区设计下,微环境可维持一个超洁净之空间,但洁净室FFU出风位置会对近微环境处之流场有所影响.
微环境 洁净室 设计参数 数值模拟
蔡尤溪 胡石政 吴仁杰 骆志辉
台北科技大学冷冻空调工程研究所 同开科技(股)有限公司
国内会议
上海
中文
83-98
2001-07-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）