红外焦平面器件互连技术分析

摘要：

红外焦平面器件互连技术的优劣直接影响器件的电性能.控制互连工艺的质量尤为重要.本文对互连好的In柱阵列进行了一系列的试验,并运用物理手段进行了分析和讨论,这对确定互连技术的工艺参数提供了理论依据.

关键词： 焦平面器件 互连接术

作者: 张钢 刘豫东

作者单位: 华北光电技术研究所(北京) 清华大学材料系(北京)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十五届全国红外科学技术交流会暨全国光电技术学术交流会

会议地点: 宁波

会议语种:中文

页码: 22-23

在线出版日期: 2001-10-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）