高反射率13nmMo/Si多层膜
采用离子束溅射在不同的工艺参数下制备一系列单层Mo膜、Si膜及多层膜,并用原子力显微镜分析单层膜表面粗糙度及两种材料间的界面扩散.当束流电压超过一定数值时,可避免单层膜的柱状生长;在Mo-on-Si和Si-onMo界面中,Mo-on-Si界面扩散对反射率的影响更大.采用X射线衍射仪分析多层膜中Mo、Si材料的晶体结构,均为多晶结构,其中Mo(110)晶向,Si为(400)晶向.根据上述分析优化工艺参数,获得的13nm Mo/Si多层膜反射率达到60℅.
软X射线索 离了束溅射镀膜 多层膜 界面扩散 反射率
刘毅楠 马月英 曹健林
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 应用光学国家重点实验室(吉林长春)
国内会议
上海
中文
149-153
2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）