X射线激光自支撑Mo滤光膜的制备及特性研究
用直流平面磁控溅射方法在抛光玻璃衬底上淀积Mo薄膜,将薄膜在真空环境中进行热处理,用扫描探针显微镜(SPM)方法观察了薄膜的表面形貌,X-射线衍射方法分析了薄膜中应力各向异性特征及其与淀积时溅射气体压强和真空热处理的关系.发现薄膜中晶粒具有明显的择优取向,内应力沿径向对称分布,切向应力比径向应力更具有压应力特性,应力的各向异性特征与溅射原子的入射方向有关.真空热处理对薄膜中压应力的释放作用不明显,然而能有效地释放薄膜中的张应力.用HF酸腐蚀衬底的方法制备了自支撑Mo薄膜,发现脱膜前后薄膜表面微观形貌未产生大的变化.
Mo薄膜 磁控溅射 表面形貌 薄膜应力
吴永刚 曹二华 王占山 魏军明 顾春时 唐伟星 陈玲燕
同济大学波耳固体物理研究所(上海)
国内会议
上海
中文
144-148
2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）