铌酸锶钡铁电薄膜的微结构与薄膜厚度的关系

摘要：

叙述了使用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程,使用X射线衍射,扫描电子显微镜,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,薄膜的厚度一直能够达到5μm.实验发现,随着厚度的增加,SBN60薄膜在(001)方向的优先取向性越来越好.在逐层生长的过程中,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配,从而使得晶体的结晶取向性越来越好.

关键词： 铁电薄膜 薄膜厚度 薄膜结构 溶胶一凝胶法 薄膜制备

作者: 叶辉 何敏德 玫炽良

作者单位: 浙江大学现代光学仪器国家重点实验室(浙江杭州) 香港理工大学应用物理系及材料研究中心(香港九龙红堪)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国薄膜学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 193-197

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）