热处理对V2O5薄膜的结构及光学性能的影响
用射频平面磁控溅射法在Ar/O2气氛中溅射V2O5粉末靶制得V2O5薄膜,然后在大气中对样品薄膜作250℃～400℃的热处理试验.用XRD分析表明薄膜随着热处理温度的升高,除了晶粒尺寸不断长大以外,薄膜的组分也在发生不断的变化,在低温下处理时出现的某些结构在高温处理后消失,同样在高温下处理后也出现了一些低温下没有出现的新结构.这种结构变化导致在300℃以下的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段都有异常大的吸收;在350℃以上的温度处理后的薄膜在可见光和近红外波段的吸收显著地减小.
光学性能 热处理 V2O5薄膜 结构变化
汤兆胜 范正修 邵建达
中国科学院上海光学精密机械研究所(上海)
国内会议
上海
中文
76-80
2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）