磁控溅射工艺控制模式比较

摘要：

对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性.

关键词： 工艺控制 电介质薄膜 磁控溅射

作者: 郑舒颖 陈少扬

作者单位: 中南实业国际(深圳)有限公司(MT8广东深圳)

会议类型: 国内会议

会议名称: 第十一届全国薄膜学术交流会

会议地点: 上海

会议语种:中文

页码: 63-67

在线出版日期: 2001-11-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）